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HRPN系列射頻等離子體納米粉生產線/球化處理設備

 

RF plasma Nano powder production line

 

 

 

 

一、   設備用途及特點

 

1、采用射頻感應等離子體生產各類納米粉末:金屬,合金,陶瓷;

 

2、鎢鉬鈮鉭等難熔純金屬納米粉制備,平均粒徑20-75納米;

 

3、氧化物、碳化物、氮化物等難熔金屬化合物納米粉制備,平均粒徑20-100納米;

 

4、純金屬、合金、金屬間化合物及陶瓷等粉體材料的球化及凈化處理

 

5、可以使用各種原材料:固體(微米粉末),液體,懸浮液和氣體

 

6、通過使用不同的等離子體氣體(氬氣,氧氣,氨氣,氫氣,氦氣,空氣,甲烷等)可以精確的控制納米粉末的化學組成。

 

7、設備主要由“真空獲得測量及充氣系統”, 射頻感應等離子體發生系統納米化處理系統探針送粉系統粉末收集系統供氣系統電控系統防爆系統 工作臺架,水冷循環系統及附件等組成。

 

二、設備主要技術指標

 

1粉體處理量:10-200G/Min

 

2、極限真空度:6.67×10-1Pa 采用旋片泵+羅茨泵系統

 

3、系統泄漏率: 1×10-6PaL/S

 

4、射頻電源:   15KW-200KW2-5MHz

 

5、總氣體流量: 20-150L/min.Ar2

 

6、粉末收集采用三級收粉系統;

 

7、電氣控制采用觸摸屏+PLC控制,人機界面爐前操作;

 

8、反應收粉室內壁鏡面拋光;采用雙層水冷304不銹鋼結構;

 

9、布袋收集室,收粉罐等材質均為:304不銹鋼;

 

11、安全防護及報警:設有膜片式防爆裝置及靜電防護裝置;斷水及水壓不足時自動切斷感應熔煉電源,同時蜂鳴加故障燈閃光顯示

三、設備主要規格:

 

技術指標

HRPN-15

HRPN-30

HRPN-60

HRPN-100

HRPN-150

HRPN-200

電源功率

15KW

30KW

60KW

100KW

150KW

200KW

頻率

3-5Mhz

3-5Mhz

2-4Mz

2-4Mz

2-3Mhz

2-3Mhz

電子管壽命

3000Hr

3000Hr

3000Hr

3000Hr

3000Hr

3000Hr

送粉量

Ti計)

10G/Min

20G/Min

75G/Min

100G/Min

150G/Min

200G/Min

炬徑

20mm

30mm

50mm

70mm

80mm

90mm

日產量

30個樣品

30個樣品

30Kg

50Kg

70Kg

90kg

設備空間

3mX2mX2m

3mX2mX2m

5mX5mX4m

5mX5mX4m

5mX5mX4m

5mX5mX4m

 

 

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